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真空解決方案 真空解決方案

真空解決方案

向下滾動

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UNIVEX C 多腔鍍膜系統和定制化沉積系統

對于特定應用，Leybold 萊寶提供模塊化多腔鍍膜機。

Leybold 萊寶 UNIVEX 多腔鍍膜機可以根據客戶要求設計，包含獨立的工藝室、真空進樣室和傳送室。每個真空室通常都有自己的高真空系統，可以實現單基片或多基片鍍膜。

在各個真空室之間傳送基材時，使用電機驅動的機械手臂傳送。UNIVEX 控制軟件根據特定的應用要求進行定制，支持編制工藝程序。

標簽：UNIVEX C 多腔鍍膜系統和定制化沉積系統

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